发明名称 | 一种氮化镓基发光二极管外延片MQS发光层 | ||
摘要 | 本发明公开了一种氮化镓基发光二极管外延片MQS发光层,包括蓝宝石衬底层(1)、Buffer—缓冲层(2)、N型GaN层(3)、MQW发光层(4)以及P型GaN层(5),其特征在于:所述MQW发光层(4)包括GaN超晶格层(41)、InGaN超晶格层(42),所述GaN超晶格层(41)厚度为11nm,InGaN超晶格层(42)厚度为3nm,该技术方案有效解决传统外延片的MQS发光层在生长过程中的厚度问题,导致发光二极管的亮度通常较低。 | ||
申请公布号 | CN103311390A | 申请公布日期 | 2013.09.18 |
申请号 | CN201310246068.3 | 申请日期 | 2013.06.20 |
申请人 | 淮安澳洋顺昌光电技术有限公司 | 发明人 | 芦玲;张向飞;钱仁海;刘坚 |
分类号 | H01L33/06(2010.01)I | 主分类号 | H01L33/06(2010.01)I |
代理机构 | 淮安市科文知识产权事务所 32223 | 代理人 | 谢观素 |
主权项 | 一种氮化镓基发光二极管外延片MQS发光层,包括蓝宝石衬底层(1)、Buffer—缓冲层(2)、N型GaN层(3)、MQW发光层(4)以及P型GaN层(5),其特征在于:所述MQW发光层(4)包括GaN超晶格层(41)、InGaN超晶格层(42), 所述GaN超晶格层(41)厚度为11nm,InGaN超晶格层(42)厚度为3nm。 | ||
地址 | 223000 江苏省淮安市清河新区景秀路6号 |