| 发明名称 | 被镀层形成用组成物以及具有金属膜的积层体的制造方法 | ||
| 摘要 | 本发明的目的是提供一种可获得无电解镀敷时的镀敷速度提高、并且对基板的密接性进一步提高的金属膜的被镀层形成用组成物、及使用此组成物而实施的具有金属膜的积层体的制造方法被镀层。本发明的被镀层形成用组成物包含式(1)所示的化合物、及具有聚合性基的聚合物。<img file="DDA00003463243100011.GIF" wi="778" he="257" /> | ||
| 申请公布号 | CN103314135A | 申请公布日期 | 2013.09.18 |
| 申请号 | CN201180064165.X | 申请日期 | 2011.12.15 |
| 申请人 | 富士胶片株式会社 | 发明人 | 塚本直树 |
| 分类号 | C23C18/18(2006.01)I;B32B15/08(2006.01)I;H05K3/18(2006.01)I | 主分类号 | C23C18/18(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人 | 臧建明 |
| 主权项 | 1.一种被镀层形成用组成物，其包含式(1)所示的化合物、及具有聚合性基的聚合物：[化1]<img file="FDA00003463242800011.GIF" wi="897" he="348" />式(1)(式(1)中，R<sup>10</sup>表示氢原子、金属阳离子、或四级铵阳离子；L<sup>10</sup>表示单键、或二价有机基；R<sup>11</sup>～R<sup>13</sup>分别独立表示氢原子、或经取代或未经取代的烷基；n表示1或2)。 | ||
| 地址 | 日本东京港区西麻布二丁目26番30号 | ||