发明名称 | 半导体器件 | ||
摘要 | 本发明提供兼具提高RC-IGBT中的二极管的恢复特性和维持欧姆接触性的半导体器件。实施方式的半导体器件具备:基板,由第1导电型半导体构成;基极层,设置在所述基板的一面侧,由第2导电型半导体构成;正极层,在所述基极层的一部分的区域中使杂质总量增加而成;IGBT区域,形成于所述基极层;二极管区域,形成于所述正极层;沟槽,从所述IGBT区域及所述二极管区域的表面侧到达所述基板,且所述二极管区域中的占有面积不同于所述IGBT区域中的占有面积;漏极层,与所述IGBT区域相对置,设置在所述基板的另一面侧,由第2导电型半导体构成;及负极层,与所述二极管区域相对置,与所述漏极层邻接,由第1导电型半导体构成。 | ||
申请公布号 | CN103311242A | 申请公布日期 | 2013.09.18 |
申请号 | CN201210320528.8 | 申请日期 | 2012.08.31 |
申请人 | 株式会社东芝 | 发明人 | 末代知子;小仓常雄 |
分类号 | H01L27/06(2006.01)I | 主分类号 | H01L27/06(2006.01)I |
代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 陈萍 |
主权项 | 一种半导体器件,其特征在于,具有:基板,由第1导电型半导体构成;基极层,设置在所述基板的一面侧,由第2导电型半导体构成;正极层,在所述基极层的一部分的区域中使杂质总量增加而成;IGBT区域,形成于所述基极层;二极管区域,与所述IGBT区域邻接,并形成于所述正极层;沟槽,被设置成从所述IGBT区域及所述二极管区域的表面侧到达所述基板,且所述二极管区域中的占有面积不同于所述IGBT区域中的占有面积;漏极层,与所述IGBT区域相对置,设置在所述基板的另一面侧,由第2导电型半导体构成;及负极层,与所述二极管区域相对置,与所述漏极层邻接设置,由第1导电型半导体构成。 | ||
地址 | 日本东京都 |