发明名称 在基底上图案化沉积金属的方法
摘要 本发明涉及一种在基底上图案化沉积金属的方法及一种制品。所述制品包括聚合膜,所述聚合膜具有主表面、所述主表面上的催化剂材料的不连续层和所述催化剂材料上的金属图案。所述催化剂材料的不连续层的平均厚度小于200埃。本发明还公开了形成这些制品的方法。
申请公布号 CN102202468B 申请公布日期 2013.09.18
申请号 CN201110119358.2 申请日期 2007.12.06
申请人 3M创新有限公司 发明人 马修·H·弗赖;特雷西·J·贝尼纳德;罗克珊·A·伯默尔
分类号 H05K3/18(2006.01)I;C23C18/30(2006.01)I;C23C18/16(2006.01)I;C23C18/31(2006.01)I;C23C18/38(2006.01)I 主分类号 H05K3/18(2006.01)I
代理机构 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 代理人 张珂珂;郭国清
主权项 一种形成包括沉积金属图案化基底的制品的方法,所述方法包括:提供具有主表面的光学透明的基底;将催化材料以小于200埃的平均厚度沉积到所述基底的所述主表面上以形成活化的基底表面;将功能化分子的图案印刷到所述活化的基底表面上以在两个非功能化区域之间形成至少一个功能化区域;以及将金属选择性地化学沉积到所述非功能化区域上以在两个导体区域之间形成具有至少一个透光区域的沉积金属图案化基底,其中所述透光区域是非导电的而无需使用蚀刻步骤,其中功能化是指通过化学键合连到基底表面以减弱引发化学镀沉积的催化剂活性,并且其中所述至少一个功能化区域限定所述透光区域,非功能化区域限定导体区域,其中沉积所述催化材料的步骤使所述基底的透光透射率Tvis降低了不到10%,且其中沉积所述催化材料的步骤产生大于每平方104Ω的所述活化基底的薄层电阻。
地址 美国明尼苏达州