发明名称 同时适于中足和后足跑步方式的鞋底
摘要 本发明公开了一种同时适于中足和后足跑步方式的鞋底,该鞋底包括:上表面;缓冲元件,其位于所述上表面之下;以及减震垫,其整体轮廓呈“З”形状结构,从所述鞋底的层次关系上,该减震垫位于所述上表面之下,与所述缓冲元件相配合组成所述鞋底的减震结构;从所述鞋底的水平位置上,该减震垫为一体成型结构,其从所述鞋底的中足区的中间位置开始延伸到所述鞋底的外侧并同时向所述鞋底的后跟延伸至该鞋底的后足区的外侧;所述减震垫在中足区、中后足区以及后足区的重点受力位置为凸起结构。本发明解决了传统跑鞋没有同时适应后足着地或中足着地时减震的问题。
申请公布号 CN103284401A 申请公布日期 2013.09.11
申请号 CN201310269846.0 申请日期 2013.06.28
申请人 李宁体育(上海)有限公司 发明人 张德文;托斯滕·斯特辛;鲍阳生;谢庆风
分类号 A43B13/18(2006.01)I 主分类号 A43B13/18(2006.01)I
代理机构 北京国昊天诚知识产权代理有限公司 11315 代理人 许志勇
主权项 一种同时适于中足和后足跑步方式的鞋底,其特征在于,该鞋底包括:上表面;缓冲元件,其位于所述上表面之下;以及减震垫,其整体轮廓呈“З”形状结构,从所述鞋底的层次关系上,该减震垫位于所述上表面之下,与所述缓冲元件相配合组成所述鞋底的减震结构;从所述鞋底的水平位置上,该减震垫为一体成型,其从所述鞋底的中足区的中间位置开始延伸到所述鞋底的外侧,并同时向所述鞋底的后跟延伸至该鞋底的后足区的外侧;所述减震垫在中足区、中后足区以及后足区的重点受力位置为凸起结构。
地址 200023 上海市卢湾区制造局路258号红双喜大厦3楼