光刻设备、控制该设备的方法和使用光刻设备制造器件的方法

摘要

本发明公开了一种浸没光刻设备、控制所述设备的方法以及使用光刻设备制造器件的方法。所述浸没光刻设备包括：衬底台，被配置以支撑衬底；投影系统，被配置以将图案化的辐射束投影到衬底上；液体处理系统，被配置以将浸没液体供给和限制到投影系统与衬底、或衬底台、或衬底和衬底台两者之间所限定的空间；和控制器，用于基于所述路径上的转弯之间的距离在衬底台穿过路径在液体处理系统下面移动期间控制衬底台相对于液体处理系统的移动速度。

主权项

一种浸没光刻设备，所述浸没光刻设备包括：投影系统，所述投影系统被配置以将图案化的辐射束引导到衬底上；正对表面，所述正对表面包括台或由所述台支撑的衬底、或所述台和由所述台支撑的衬底两者；液体处理系统，所述液体处理系统被配置以将浸没液体供给和限制到在所述投影系统和所述正对表面之间限定的空间，所述正对表面面对所述液体处理系统，其中在使用中，所述液体包括在所述液体处理系统和所述正对表面之间的弯液面；和控制器，所述控制器用于在所述台在所述液体处理系统的下面移动期间控制所述台相对于所述液体处理系统的移动，且所述控制器被配置以基于在所述移动的方向上的变化位置之间的距离来改变所述移动的速度，其中所述液体处理系统设置有阻尼器，该阻尼器面对用于保持液体至所述空间的正对表面，所述阻尼器具有围绕所述液体处理系统的周边变化的宽度，所述液体处理系统包括用于从所述空间抽取液体的开口，其中所述阻尼器在所述开口与所述液体处理系统的外边缘之间。