发明名称 射线照相装置和射线照相方法
摘要 本发明提供一种射线照相装置和射线照相方法,该射线照相装置基于辐照面积和图像数据发生器的放射线检测面积之间的比较结果来控制被试者被放射线的辐照,其中辐照面积是基于光圈的开口面积计算的,图像数据发生器检测透射通过被试者的放射线并且产生图像数据。
申请公布号 CN101664314B 申请公布日期 2013.09.11
申请号 CN200910167450.9 申请日期 2009.08.25
申请人 富士胶片株式会社 发明人 大田恭义
分类号 A61B6/00(2006.01)I 主分类号 A61B6/00(2006.01)I
代理机构 中科专利商标代理有限责任公司 11021 代理人 陈平
主权项 一种射线照相装置,所述射线照相装置包括:辐照单元,其用放射线辐照被试者;光圈,其调节从所述辐照单元向所述被试者辐照的所述放射线的辐照范围;光圈控制器,其控制所述光圈的开口面积;辐照面积计算单元,其基于所述光圈的所述开口面积计算所述辐照范围的辐照面积;和控制器,其基于所述辐照面积与图像数据发生器的放射线的检测面积之间的比较结果来控制所述被试者由所述辐照单元用所述放射线的辐照,所述图像数据发生器检测已经透射通过所述被试者的放射线并且产生图像数据;其中所述射线照相装置还包括:放射线量检测单元,其检测已经通过所述光圈的所述放射线的放射线量,区域信息输入单元,其输入与所述被试者将被所述放射线辐照的区域有关的区域信息,和放射线量计算单元,其基于由所述放射线量检测单元检测的所述放射线量、由所述区域信息输入单元输入的所述区域信息和由所述图像数据发生器产生的所述图像数据,计算所述被试者已经被辐照的所述放射线的量,并且其中当所述辐照面积比所述检测面积大预定阈值或更大时,所述控制器阻止所述被试者由所述辐照单元用所述放射线辐照,其中所述预定阈值被设定为这样的值,采用该值,在辐照面积比检测面积大该预定值或更大时,所述控制器可以判断被试者被放射线辐照的放射线量超过预先确定的容许范围。
地址 日本东京都