发明名称 粒子束照射系统及粒子束照射系统之控制方法
摘要 本发明的目的为在粒子束照射系统中,给予更佳精确度的高剂量分布。;照射控制部(13)系具备有:能量设定控制器(14),用以设定带电粒子射束的能量;射束扫描控制器(16),用以控制射束扫描器(41);以及射束直径控制器(15),用以控制射束直径变更器(40、60);而照射控制部(13)系以下述方式进行控制:藉由射束直径控制器(15)将带电粒子射束的射束直径设定为第一射束直径,并藉由射束扫描控制器(16)将带电粒子射束以阶梯状扫描并对照射目标的预定区域照射带电粒子射束;之后,藉由射束直径控制器(15)将带电粒子射束的射束直径设定为与第一射束直径相异的第二射束直径,并藉由射束扫描控制器(16)将带电粒子射束以阶梯状扫描,并以对与照射目标的预定区域的至少一部份重叠的区域照射带电粒子射束。
申请公布号 TWI406683 申请公布日期 2013.09.01
申请号 TW100112439 申请日期 2011.04.11
申请人 三菱电机股份有限公司 日本 发明人 原田久
分类号 A61N5/10;G21K5/04 主分类号 A61N5/10
代理机构 代理人 洪武雄 台北市中正区博爱路35号9楼;陈昭诚 台北市中正区博爱路35号9楼
主权项
地址 日本