| 摘要 |
〔课题〕本发明提供气化器，其系可以低温气化供CVD装置成膜之液体原料。;〔解决方法〕;气化器10具备：藉由加热器(66)、(76)与(81)加热的气化室(60)；配置于气化室(60)下端部而由加热器(81)加热之一次滤清器(80)；将调节过流量的液体原料(LM)由气化室(60)之上方朝一次滤清器(80)滴下之液体原料供应部(24)；将载气(Carrier gas)(CG)引导至一次滤清器(80)下面之载气导入路(78)；以及将载气(CG)与被气化之液体原料(VM)之混合气体(VM+CG)由气化室(60)上部排出之原料导出路(62)。滴落至一次滤清器(80)的液体原料(LM)一部分被气化，再受到来自下方的载气(CG)的起泡(Bubling)作用而成为雾状。雾的表面积比非雾状态大，因此，液体原料(LM)可以有效受热，可以低温气化液体原料(LM)。 |
