遮蔽构件、光刻设备以及器件制造方法

摘要

本发明公开一种光刻设备和一种器件制造方法。所述光刻设备包括衬底台、流体处理结构和交换台。衬底台配置用以支撑衬底。流体处理结构配置用以供给浸没液体并将浸没液体限制到限定在投影系统和衬底台、衬底或两者之间的空间。交换台包括遮蔽表面，遮蔽表面配置成例如在衬底台上交换衬底的期间位于流体处理结构的下面。在使用时，衬底台的表面和交换台的表面之间的转移表面在流体处理结构下面移动以帮助阻止浸没液体逃逸。本发明还公开了一种遮蔽构件和方法。

主权项

一种浸没式光刻设备，包括：衬底台，配置用以支撑衬底；流体处理结构，配置用以供给浸没液体并将浸没液体限制到限定在投影系统和衬底台、衬底或两者之间的空间；交换台，配置成位于流体处理结构下面，以将液体保持在所述空间内；其特征在于，所述浸没式光刻设备还包括转移表面，配置成位于流体处理结构下面以及衬底台的表面和交换台的表面之间，其中所述转移表面配置成阻止浸没液体在具有与流体处理结构和转移表面之间的相对运动的方向相垂直的分量的方向上在转移表面的至少一部分上移动。