| 发明名称 | 烧结体溅射靶 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种烧结体溅射靶，含有Cr、Co作为金属成分，并且包含分散在该金属成分的基质中的氧化物，其特征在于，该溅射靶的组织在金属基质中具有在Co中分散有Co氧化物的区域（A）和在该区域（A）的周缘的含有Cr氧化物的区域（D）。本发明还涉及所述烧结体溅射靶的制造方法，将Co粉末、Cr粉末与将在Co中分散有Co氧化物的烧结体粉碎而得到的粉末混合而得到的混合粉末加压烧结，由此得到该组织。本发明的课题在于提供残留必要量的Co氧化物、溅射时的粉粒产生少、具有充分的烧结密度的溅射靶。 | ||
| 申请公布号 | CN103270190A | 申请公布日期 | 2013.08.28 |
| 申请号 | CN201180062203.8 | 申请日期 | 2011.12.02 |
| 申请人 | 吉坤日矿日石金属株式会社 | 发明人 | 佐藤敦;中村祐一郎 |
| 分类号 | C23C14/34(2006.01)I;C22C1/05(2006.01)I;C22C19/07(2006.01)I;C22C32/00(2006.01)I;G11B5/851(2006.01)I | 主分类号 | C23C14/34(2006.01)I |
| 代理机构 | 中原信达知识产权代理有限责任公司 11219 | 代理人 | 王海川;穆德骏 |
| 主权项 | 一种烧结体溅射靶，含有Co、Cr作为金属成分，并且包含分散在该金属成分的基质中的氧化物，其特征在于，该溅射靶的组织在金属基质中具有在Co中分散有Co氧化物的区域（A）和在该区域（A）的周缘的含有Cr氧化物的区域（D）。 | ||
| 地址 | 日本东京 | ||