钛、铝金属层积膜之蚀刻液组成物

摘要

本发明之课题，系提供一种蚀刻液组成物，不会对基底的基板等造成损伤而且可以将锥形角度抑制在30~90度，总括地蚀刻藉由溅镀法而成膜在玻璃等的绝缘基板、矽基板及化合物半导体基板上而成的金属层积膜；该金属层积膜含有由钛或以钛作为主成分之合金所构成的层、及由铝或以铝作为主成分之合金所构成的层。;本发明之解决手段，系提供一种蚀刻液组成物，含有：选自由氢氟酸的金属盐或铵盐、六氟矽酸、六氟矽酸的金属盐或铵盐、四氟硼酸与四氟硼酸的金属盐或铵盐所组成的群组中之至少1种氟化合物、及氧化剂。