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发明名称
薄膜沈积装置
摘要
本发明提供一种薄膜沈积装置,包含复数个指叉式电极,搭配一射频电流供应器、信号调整器以及复数个频率震荡器所组成。该薄膜沈积装置可以在装置之腔体内部可产生大面积均匀之电浆,以适用于各种光电薄膜材料之沈积。
申请公布号
TWI405867
申请公布日期
2013.08.21
申请号
TW099123497
申请日期
2010.07.16
申请人
亚树科技股份有限公司
发明人
李炳寰;杨茹媛;叶昌鑫;简永杰
分类号
C23C16/54;C23C16/50
主分类号
C23C16/54
代理机构
代理人
李文贤 新北市板桥区民生路1段33号17楼之3
主权项
地址
台南市台南科学工业园区南科二路12号R205 TW R205, NO. 12, NAN-KE 2ND RD, TAINAN SCIENCE-BASED INDUSTRIAL PARK, TAINAN COUNTRY, 74147, TAIWAN, R. O. C.
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