发明名称 用于光调幅和调相的装置
摘要 在公知的光调制装置中,用于调制光波的复合相位和振幅值分别由两个不同的光调制装置或具有两层双折射率材料的光调制装置来实现和调制的,这导致增加了材料和调制的成本。本发明涉及一种简化了由双折射材料制成的单个光调制装置中光波的相位和振幅调制的新装置。在装置中,具有规则放置的用于相干光波的复合调制的具有双折射材料(LC)的可控光调制元件,以及控制双折射材料(LC)的分子(M)的光轴的诱导力定向的调制控制器,在两个维度中为光调制元件中的分子(M)的光轴的独立定向提供这些装置。该定向可由电、磁或光作用装置代替。该装置通过利用当个或结合的装置允许具有单个材料层的光调制装置中的光波的复值光调制。
申请公布号 CN101779168B 申请公布日期 2013.08.21
申请号 CN200880102701.9 申请日期 2008.06.05
申请人 视瑞尔技术公司 发明人 诺伯特·莱斯特;拉尔夫·豪斯勒;斯蒂芬·布什贝克
分类号 G03H1/02(2006.01)I;G03H1/22(2006.01)I;G02F1/1343(2006.01)I;G02F1/135(2006.01)I 主分类号 G03H1/02(2006.01)I
代理机构 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人 王光辉
主权项 一种具有规则排列可控光调制元件的装置,该装置包含用于调制充分相干光波的相位和振幅的分子形式的双折射材料,调制控制器控制分子(M)的光轴的方向,该方向受施加力的影响,其特征在于,通过在彼此独立的两个维度中影响光调制元件内分子(M)的光轴的方向的可控装置以及通过设置在出口处的起偏器来定向,所述可控装置为至少一个电场和/或至少一个磁场和/或至少一个光学装置,或彼此独立的两个维度中的任意组合的电场、磁场和光学装置。
地址 卢森堡蒙斯拜奇