一种用于硬盘盘基片超精密表面制造的抛光组合物

摘要

本发明公开了属于计算机存储器硬盘制造技术领域的一种用于硬盘盘基片超精密表面制造的抛光组合物。该抛光组合物包含磨料、腐蚀剂、氧化剂和水，其特征在于：该抛光组合物还包含稳定剂、抛光促进剂和抛光平衡剂，所述抛光促进剂为无机盐类，所述抛光平衡剂为有机酸盐类。本发明提供的抛光组合物主要适用于硬盘盘基片制造中的超精密抛光，具有抛光去除速率较高的特点，经其抛光后的盘基片表面超光滑，无凹坑、突起等缺陷，表面粗糙度在0.3埃以下、表面波纹度0.5埃以下，且有效消除表面微划痕、抛光痕迹等微缺陷。该抛光组合物适用于硬盘镍磷镀敷铝合金基片和玻璃基片等的超精密表面制造。

主权项

一种用于硬盘盘基片超精密表面制造的抛光组合物，包含磨料、腐蚀剂、氧化剂和水，其特征在于：该抛光组合物还包含稳定剂、抛光促进剂和抛光平衡剂，所述抛光促进剂为无机盐类，所述抛光平衡剂为有机酸盐类，所述抛光组合物的pH值为0.5～5；所述无机盐类为磷酸盐、磷酸氢二盐、磷酸二氢盐、碳酸盐或碳酸氢盐中的一种或几种；所述有机酸盐类为羟基羧酸盐、氨基羧酸盐、磺基羧酸盐、膦酸盐中的一种或几种；所述羟基羧酸盐为乙醇酸盐、乳酸盐或水杨酸盐中的一种或几种，所述氨基羧酸盐为甘氨酸盐、丙氨酸盐、谷氨酸盐、天门冬氨酸盐或乙二胺四乙酸盐中的一种或几种，所述磺基羧酸盐为磺基水杨酸盐或磺基琥珀酸盐中的一种或几种，所述膦酸盐为2‑膦酸丁烷‑1，2，4‑三羧酸盐、氨基三亚甲基膦酸盐、羟基亚乙基二膦酸盐、乙二胺四亚甲基膦酸盐或己二胺四亚甲基膦酸盐中的一种或几种； 所述稳定剂为丙酸、戊二酸、已二酸、富马酸、衣康酸、乳酸、苹果酸、马来酸、乙醇酸、α‑羟基异丁酸、甘油酸、葡糖酸、水杨酸、五倍子酸、2‑膦酸丁烷‑1，2，4‑三羧酸、氨基三亚甲基膦酸、乙二胺四亚甲基膦酸、羟基亚乙基二膦酸或己二胺四亚甲基膦酸中的一种或几种；按重量百分含量，稳定剂为0.02～10 wt%，抛光促进剂为0.01～20 wt%，抛光平衡剂为0.001～10 wt%，磨料为1～30 wt%，腐蚀剂为0.1～10 wt%，氧化剂为0.1～20 wt%；所述磨料为氧化硅、氧化铝、氧化锆或氧化铈中的一种或几种，所述磨料的平均粒径为10～200纳米；所述腐蚀剂为盐酸、硝酸、磷酸、硫酸、氨基磺酸、次磷酸、亚磷酸或焦 磷酸的一种或几种；所述氧化剂为过氧化氢、过氧化钠、硝酸铁、硝酸铝、过二硫酸、过二硫酸钠、过乙酸、过苯甲酸、次氯酸、次氯酸钠、次氯酸钙、次溴酸、次碘酸、高氯酸、高溴酸或高碘酸中的一种或几种。