发明名称 一种选择性金属电沉积装置及其应用
摘要 本发明属于电化学加工技术领域,一种选择性金属电沉积装置及其应用。一种金属电沉积装置,其特征在于:包括用于容纳电解液的储液槽和用于在电沉积过程中与阴极和阳极对应电连接的电源,超声电源,由支架支撑的超声辅助喷射装置,三坐标数控平台,三坐标数控平台包括动作执行机构、支架和计算机;储液槽外还设有为电解液提供喷射压力的蠕动泵以及控制电解液流量的控制阀;储液槽内设有保持电解液温度的温控器;超声辅助喷射装置底部有电解液喷嘴。本发明提高现有电沉积技术中的沉积层硬度、致密性以及电沉积速度,降低镀层残余应力,同时实现电沉积区域的可选择性以及实现简单形状零件的电沉积成形。
申请公布号 CN103255452A 申请公布日期 2013.08.21
申请号 CN201310162627.2 申请日期 2013.05.03
申请人 中国人民解放军装甲兵工程学院 发明人 谭俊;吴迪;兰龙;高玉琳;蔡志海;郑晓辉;曾其彬
分类号 C25D5/02(2006.01)I;C25D5/08(2006.01)I;C25D5/20(2006.01)I 主分类号 C25D5/02(2006.01)I
代理机构 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 代理人 刘萍
主权项 一种金属电沉积装置,其特征在于:包括用于容纳电解液的储液槽和用于在电沉积过程中与阴极和阳极对应电连接的电源,超声电源,由支架支撑的超声辅助喷射装置,三坐标数控平台,三坐标数控平台包括动作执行机构、支架和计算机;储液槽外还设有为电解液提供喷射压力的蠕动泵以及控制电解液流量的控制阀;储液槽内设有保持电解液温度的温控器;超声辅助喷射装置底部有电解液喷嘴。
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