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Verfahren, das aufweist: Bestrahlen eines Fotolacks (302; 402; 502; 602; 702; 802; 902), der auf einem Substrat (301; 401; 501; 601; 701; 801) gebildet ist, mit einer Strahlung, wobei eine Maske (303; 403; 503; 603; 703; 803; 901) verwendet wird, um einen oder mehrere erste Bereiche (312; 405; 507; 607; 707; 807) des Fotolacks, einen oder mehrere zweite Bereiche (313; 406; 508; 608; 708; 808) des Fotolacks und einen oder mehrere dritte Bereiche (314; 408; 509; 609; 709; 809) des Fotolacks zu bilden; Entfernen des einen oder der mehreren ersten Bereiche (312; 405; 507; 607; 707; 807) des Fotolacks von dem Substrat (301; 401; 501; 601; 701; 801), wobei eine erste chemische Substanz verwendet wird; und Entfernen des einen oder der mehreren zweiten Bereiche (313; 406; 508; 608; 708; 808) des Fotolacks von dem Substrat (301; 401; 501; 601; 701; 801), wobei eine zweite chemische Substanz verwendet wird.
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