发明名称 一种光刻机投影物镜像面在线测量标记及测量方法
摘要 一种光刻机投影物镜像面在线测量标记及利用该标记的测量方法。所述测量标记为连续型标尺型标记。利用此标记通过曝光方法,获取光刻机成像视场中各位置的最佳成像高度,最终拟合出光刻机投影物镜的像面、场曲、高阶场曲等参数。
申请公布号 CN102200691B 申请公布日期 2013.08.14
申请号 CN201010131943.X 申请日期 2010.03.25
申请人 上海微电子装备有限公司 发明人 李术新;毛方林
分类号 G03F7/20(2006.01)I;G01M11/02(2006.01)I 主分类号 G03F7/20(2006.01)I
代理机构 北京连和连知识产权代理有限公司 11278 代理人 王光辉
主权项 一种对光刻机投影物镜像面进行在线测量的方法,所述方法使用一种测量标记,所述标记为连续分布的带有标尺的刻度型标记,所述带有标尺的刻度型标记由刻度线条、位置标识组成,所述方法使用的装置包括:产生投影光束的光源;用于调整所述光源发出的光束的光强分布和部分相干因子的照明系统;能将掩模图案成像且其数值孔径可以调节的成像光学系统;能承载所述掩模并精确定位的掩模台;能承载硅片并精确定位的工件台;可使工件台精确定位的激光干涉仪;所述方法包含以下步骤:(1)所述光源发出的光经所述照明系统照射到刻有所述测量标记的掩模上,掩模选择性地透过一部分光线,这部分光线经所述成像光学系统,曝光成像到绕y轴以一定倾斜角度b放置于最佳像面处的硅片上;(2)显影硅片,在显微镜下观察成像标记,找到成像最清晰的位置,计算光刻机物镜像面大致的位置;(3)以一定的步进高度,在步骤(2)得到的像面附近,依次将测量标记曝光到硅片的不同位置上;(4)显影硅片后,读取标记在多个位置处的最佳成像高度,并拟合出像面高度、倾斜和高阶场曲。
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