一种低成本颜色可调的低辐射窗槛墙膜系及其制备方法

摘要

本发明公开了一种低成本颜色可调的低辐射窗槛墙膜系及其制备方法。该膜系自透明基底向上依次包括镀制在透明基底上的下层氮化硅薄膜、可见光吸收薄膜、金属薄膜以及上层氮化硅保护膜。本发明的膜系在可见光范围对太阳光的平均反射率在5%～30%，而辐射率小于10%。同时本发明的膜系在保持对可见光低反射、红外低辐射率前提下，还具有外观颜色可按需求进行调节的特点，丰富多彩的外观颜色可更好地实现了窗槛墙对建筑的美化效果。由于采用了上、下层氮化硅保护膜夹心结构，本发明的膜系还具备可钢化特性。本发明的颜色可调的低辐射窗槛墙膜系可直接通过工业化磁控溅射制备方法在大面积透明基底上连续镀制，易于实现低成本、大规模工业化生产。

主权项

一种低成本颜色可调的低辐射窗槛墙膜系，它包括：透明基底（1）、下层氮化硅薄膜（2）、可见光吸收薄膜（3）、金属薄膜（4）和上层氮化硅保护膜（5），其特征在于：所述的膜系结构为：在透明基底（1）上自下而上依次为下层氮化硅薄膜（2）、可见光吸收薄膜（3）、金属薄膜（4）以及上层氮化硅保护膜（5），即：透明基底/下层氮化硅薄膜/可见光吸收薄膜/金属薄膜/上层氮化硅保护膜其中：作为窗槛墙的主体的所述的透明基底（1）是透明玻璃或塑料；作为辅助颜色调节层及钢化时膜系的保护膜的所述的下层氮化硅薄膜（2）的厚度范围为0nm～200nm；作为主颜色调节层的所述的可见光吸收薄膜（3）是对可见光有吸收的氧化物、氮化物或氮氧化物，其厚度范围为20nm～200nm；作为膜系低辐射功能层的所述的金属薄膜（4）是各种具有红外高反射的金属膜，其厚度范围为50nm～200nm；作为金属薄膜保护层的所述的上层氮化硅保护膜（5）的厚度范围为0nm～200nm。