用于确定光学系统中的反射镜的发热状况的方法和布置

摘要

本发明涉及用于确定在光学系统，尤其是微光刻投射曝光设备中的反射镜(101、201、401、601、701、801)的发热状况的方法和布置。在实施例中，反射镜为EUV反射镜，以及根据本发明的方法包含以下步骤：将至少一个输入测量光束偏转至反射镜(101、201、401、601、701、801)上；测定由输入测量光束在与反射镜(101、201、401、601、701、801)的相互作用之后产生的至少一个输出测量光束的至少一个光学参数；以及基于所述参数确定反射镜(101、201、401、601、701、801)的发热状况。

主权项

一种确定光学系统中，尤其是微光刻投射曝光设备中的反射镜的发热状况的方法，其中所述反射镜为EUV反射镜，以及其中所述方法包含以下步骤：a)将至少一个输入测量光束偏转至所述反射镜(101、201、401、601、701、801)上；b)测定由所述输入测量光束在与所述反射镜(101、201、401、601、701、801)的相互作用之后产生的至少一个输出测量光束的至少一个光学参数；以及c)基于所述光学参数确定所述反射镜(101、201、401、601、701、801)的所述发热状况。