发明名称 一种干刻蚀装置的下部电极及干刻蚀装置
摘要 本实用新型涉及干刻蚀技术领域,特别涉及一种干刻蚀装置的下部电极及干刻蚀装置,用于提高基板刻蚀的合格率。本实用新型公开了一种干刻蚀装置的下部电极,包括:电极基底,设置于所述电极基底上的陶瓷层,且所述陶瓷层具有供冷却气体通过的多个吹气孔,以及设置于所述陶瓷层周边且凸出所述陶瓷层上表面的凸台。采用本实用新型提供的下部电极对基板进行刻蚀时,基板中部与陶瓷层上表面接触,基板边缘由凸台支撑,如此设置,可以提高刻蚀的均一性,从而提高基板刻蚀的合格率。本实用新型同时还公开了一种干刻蚀装置,包括具有上述特征的干刻蚀装置的下部电极。
申请公布号 CN203134749U 申请公布日期 2013.08.14
申请号 CN201320149157.1 申请日期 2013.03.28
申请人 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 发明人 赵吾阳;蒋冬华;倪水滨
分类号 H01J37/04(2006.01)I;H01J37/30(2006.01)I 主分类号 H01J37/04(2006.01)I
代理机构 北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 代理人 黄志华
主权项 一种干刻蚀装置的下部电极,其特征在于,包括:电极基底和设置于所述电极基底上的陶瓷层;其中,所述陶瓷层具有供冷却气体通过的多个吹气孔,以及设置于所述陶瓷层周边且凸出所述陶瓷层上表面的凸台。
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