发明名称 |
一种干刻蚀装置的下部电极及干刻蚀装置 |
摘要 |
本实用新型涉及干刻蚀技术领域,特别涉及一种干刻蚀装置的下部电极及干刻蚀装置,用于提高基板刻蚀的合格率。本实用新型公开了一种干刻蚀装置的下部电极,包括:电极基底,设置于所述电极基底上的陶瓷层,且所述陶瓷层具有供冷却气体通过的多个吹气孔,以及设置于所述陶瓷层周边且凸出所述陶瓷层上表面的凸台。采用本实用新型提供的下部电极对基板进行刻蚀时,基板中部与陶瓷层上表面接触,基板边缘由凸台支撑,如此设置,可以提高刻蚀的均一性,从而提高基板刻蚀的合格率。本实用新型同时还公开了一种干刻蚀装置,包括具有上述特征的干刻蚀装置的下部电极。 |
申请公布号 |
CN203134749U |
申请公布日期 |
2013.08.14 |
申请号 |
CN201320149157.1 |
申请日期 |
2013.03.28 |
申请人 |
京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
发明人 |
赵吾阳;蒋冬华;倪水滨 |
分类号 |
H01J37/04(2006.01)I;H01J37/30(2006.01)I |
主分类号 |
H01J37/04(2006.01)I |
代理机构 |
北京同达信恒知识产权代理有限公司 11291 |
代理人 |
黄志华 |
主权项 |
一种干刻蚀装置的下部电极,其特征在于,包括:电极基底和设置于所述电极基底上的陶瓷层;其中,所述陶瓷层具有供冷却气体通过的多个吹气孔,以及设置于所述陶瓷层周边且凸出所述陶瓷层上表面的凸台。 |
地址 |
100015 北京市朝阳区酒仙桥路10号 |