发明名称 像差测量方法,曝光设备,及装置制造方法
摘要 一种测量曝光设备之投影光学系统之球面像差或慧星像差的方法,该曝光设备系用以经由该投影光学系统而传输于原板上所形成之图案的影像至基板上。测量该球面像差之该方法包括在第一测量状况下获得该投影光学系统之焦点位置,在不同于该第一测量状况之第二测量状况下获得该投影光学系统之焦点位置,及依据在该第一及第二测量状况下所获得之该焦点位置之差异,测量该投影光学系统之该球面像差。
申请公布号 TWI405043 申请公布日期 2013.08.11
申请号 TW097111185 申请日期 2008.03.28
申请人 佳能股份有限公司 日本 发明人 前田普教
分类号 G03F7/20;G01M11/02 主分类号 G03F7/20
代理机构 代理人 林志刚 台北市中山区南京东路2段125号7楼
主权项
地址 日本