半导体元件之制法

摘要

一种曝光遮光罩提供一微小图案形成，其藉由防止在一第一图案与一第二图案之间的一间隔中产生浮渣而使半导体元件之高度整合成为可能。该曝光遮光罩包括一第一图案及一邻近于该第一图案之第二图案。一间隔形成于该第一图案与该第二图案之间。该第一图案及该第二图案可各自包括一邻近于该间隔之方波成形边缘。该方波成形边缘包括复数个凹入部分及凸起部分。