发明名称 基板处理装置
摘要 本发明提供有效利用在喷嘴初始化机构中被使用的清洗液并且使配管结构简化的基板处理装置。基板处理装置的喷嘴维护单元具有辊、容置辊的辊槽、用于清洗喷嘴的喷嘴清洗单元和用于供喷嘴清洗单元待机的待机槽。该辊槽和待机槽通过连接管连接,待机槽上的溶液全部送至辊槽。由此从狭缝喷嘴和喷嘴清洗单元排出的清洗液和处理液全部暂时贮存在辊槽中,从而能够利用这些液体清洗在进行预先喷出中被喷射了处理液的辊外圆周面。另外,因为排气配管、溢出废液配管和辊槽废液配管设置在辊槽上即可,所以配管结构被简化。
申请公布号 CN101856646B 申请公布日期 2013.08.07
申请号 CN201010149501.8 申请日期 2010.03.25
申请人 大日本网屏制造株式会社 发明人 高木善则
分类号 B05C5/02(2006.01)I;B05C9/10(2006.01)I;B05C11/10(2006.01)I;B05C13/00(2006.01)I;B05B15/02(2006.01)I;B05B13/02(2006.01)I 主分类号 B05C5/02(2006.01)I
代理机构 隆天国际知识产权代理有限公司 72003 代理人 郭晓东;马少东
主权项 一种基板处理装置,用于在基板上涂敷规定的处理液,其特征在于,具有:喷嘴,其设置在沿着大致水平的第一方向被搬运的所述基板的上方,能够喷出所述处理液,并且该喷嘴沿着与所述第一方向垂直的大致水平的第二方向延伸,辊,其沿着所述第二方向延伸,在预先喷出中使用,该预先喷出是通过从所述喷嘴向该辊的外圆周面喷出所述处理液,将所述喷嘴的前端部的处理液调整为规定状态,框体,其沿着所述第二方向延伸,用于容置所述辊,喷嘴清洗机构,其利用清洗液清洗所述喷嘴;来自所述喷嘴的喷出液和来自所述喷嘴清洗机构的排出液贮存在共用的所述框体内。
地址 日本京都府
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