| 发明名称 | 化学机械研磨设备 | ||
| 摘要 | 本发明提供一种化学机械研磨设备，包括：研磨垫、研磨头和端口，在化学机械研磨工艺过程中，所述研磨头夹持半导体衬底，所述研磨头与研磨垫能够进行旋转运动，所述研磨头能相对所述研磨垫进行相对滑动，所述相对滑动方向平行于第一直线方向，所述端口用于在研磨垫和研磨头上的半导体衬底之间提供研磨液，所述端口能够相对研磨垫进行相对滑动，该相对滑动的方向平行于所述第一直线方向。本发明提供的化学机械研磨设备，提高了研磨液利用率。 | ||
| 申请公布号 | CN103223638A | 申请公布日期 | 2013.07.31 |
| 申请号 | CN201310156820.5 | 申请日期 | 2013.04.28 |
| 申请人 | 上海华力微电子有限公司 | 发明人 | 邓镭 |
| 分类号 | B24B37/34(2012.01)I;B24B57/02(2006.01)I | 主分类号 | B24B37/34(2012.01)I |
| 代理机构 | 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 | 代理人 | 陆花 |
| 主权项 | 一种化学机械研磨设备，包括：研磨垫、研磨头和端口，在化学机械研磨工艺过程中，所述研磨头夹持半导体衬底，所述研磨头与研磨垫能够进行旋转运动，所述研磨头能相对所述研磨垫进行相对滑动，所述相对滑动方向平行于第一直线方向，所述端口用于在研磨垫和研磨头上的半导体衬底之间提供研磨液，其特征在于，所述端口能够相对研磨垫进行相对滑动，该相对滑动的方向平行于所述第一直线方向。 | ||
| 地址 | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区高斯路497号 | ||