| 发明名称 | 微光刻投射曝光设备的照明系统中多镜阵列的监测方法和设备 | ||
| 摘要 | 本发明涉及一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统(12)，包括光瞳面和由优选地可单独控制、用于光瞳面可变地照明的射束偏转元件(28)组成的基本上平面状的布置。可以根据施加在射束偏转元件(28)上的控制信号，通过每个射束偏转元件(28)使得入射到它上的投射光束(32)产生偏转。测量照明装置(54、56、58、60；88；90；98)将与投射光束(32)无关的测量光束(36)被引导到射束偏转元件(28)上。检测装置检测在射束偏转元件(28)上偏转后的测量光束(38)。评估单元根据检测装置提供的测试信号确定投射光束(32)的偏转。 | ||
| 申请公布号 | CN101636696B | 申请公布日期 | 2013.07.31 |
| 申请号 | CN200880004238.4 | 申请日期 | 2008.02.06 |
| 申请人 | 卡尔蔡司SMT有限责任公司 | 发明人 | 斯蒂芬·泽尔特;关彦彬;安德拉斯·G·梅杰;曼弗雷德·莫尔;约翰尼斯·艾森门格;达米安·菲奥尔卡;简·霍恩;马库斯·德冈瑟;弗洛里安·巴赫;迈克尔·帕特拉;约翰尼斯·万格勒;迈克尔·莱 |
| 分类号 | G03F7/20(2006.01)I;G02B26/08(2006.01)I | 主分类号 | G03F7/20(2006.01)I |
| 代理机构 | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人 | 邱军 |
| 主权项 | 一种微光刻投射曝光设备(10)的照明系统(12)，包括光瞳面和用于光瞳面可变地照明的、由射束偏转元件(28)组成的基本上平面状的布置，其中，对于每个射束偏转元件(28)，有分配到其并且打到其上的投射光束(32)，其中，根据施加到射束偏转元件(28)上的控制信号，每个射束偏转元件(28)允许分配到所述射束偏转元件上的投射光束(32)偏转，其特征在于，至少一个测量照明装置(54、56、58、60；88；90；98)，用它可以将与投射光束(32)无关的测量光束(36)被引导到射束偏转元件(28)上，检测装置，通过它可以记录在由射束偏转元件(28)偏转后的测量光束(38)，以及评估单元，用于根据检测装置提供的测量信号确定分配到所述射束偏转元件(28)的投射光束(32)的偏转。 | ||
| 地址 | 德国上科亨 | ||