发明名称 SPUTTERING TARGET
摘要 An oxide sintered body including an oxide of indium (In), gallium (Ga), and positive trivalent and/or positive tetravalent metal X, wherein the amount of the metal X relative to the total amount of In and Ga is 100 to 10000 ppm (weight).
申请公布号 KR20130085947(A) 申请公布日期 2013.07.30
申请号 KR20127031466 申请日期 2011.06.01
申请人 IDEMITSU KOSAN CO., LTD. 发明人 TOMAI SHIGEKAZU;EBATA KAZUAKI;MATSUZAKI SHIGEO;YANO KOKI
分类号 C04B35/00;C23C14/34;H01L21/363 主分类号 C04B35/00
代理机构 代理人
主权项
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