发明名称 | 一种增强型N沟道绝缘栅场效应管 | ||
摘要 | 本发明公开了一种增强型N沟道绝缘栅场效应管,包括:P型硅衬底、多个N型区、二氧化硅绝缘层、源极、栅极和漏极,所述P型硅衬底的上部扩散有两个N型区,所述两个N型区的表面上加工有二氧化硅绝缘层,所述二氧化硅绝缘层和两个N型区的表面上分别引出源极、栅极和漏极。通过上述方式,本发明提供的一种增强型N沟道绝缘栅场效应管,制造工艺比较简单,使用灵活方便,有利于高度集成化。 | ||
申请公布号 | CN103219383A | 申请公布日期 | 2013.07.24 |
申请号 | CN201310100037.7 | 申请日期 | 2013.03.27 |
申请人 | 林伟良 | 发明人 | 林伟良 |
分类号 | H01L29/78(2006.01)I | 主分类号 | H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 | 苏州广正知识产权代理有限公司 32234 | 代理人 | 刘述生 |
主权项 | 一种增强型N沟道绝缘栅场效应管,其特征在于,包括:P型硅衬底、多个N型区、二氧化硅绝缘层、源极、栅极和漏极,所述P型硅衬底的上部扩散有两个N型区,所述两个N型区的表面上加工有二氧化硅绝缘层,所述二氧化硅绝缘层和两个N型区的表面上分别引出源极、栅极和漏极。 | ||
地址 | 213000 江苏省常州市武进区礼河长汀村 |