发明名称 |
ELA不均匀性的量化判断方法及其反馈系统 |
摘要 |
本发明公开了一种激光晶化工艺(ELA)不均匀性的量化判断方法及其反馈系统,该系统主要包括:探测装置,用于检测多晶硅少数载流子寿命;计算评级模块,用于收集检测数据,计算并分类统计结果;反馈调节模块,用于收集评级结果并控制激光晶化设备的自动调整。利用本发明的量化判断方法及其反馈系统,不但能够对多晶硅不均匀性(多晶硅mura)进行量化判断,还能够将检测评判结果通过反馈系统反馈给工艺设备,进行及时调整,以减少产品损失和提高良率。 |
申请公布号 |
CN103219229A |
申请公布日期 |
2013.07.24 |
申请号 |
CN201310104614.X |
申请日期 |
2013.03.28 |
申请人 |
昆山维信诺显示技术有限公司 |
发明人 |
魏博;邱勇;李俊峰 |
分类号 |
H01L21/268(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/268(2006.01)I |
代理机构 |
北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 |
代理人 |
刘淑敏 |
主权项 |
一种激光晶化工艺ELA不均匀性的量化反馈系统,包括激光晶化设备;其特征在于,还包括探测装置、计算评级模块和反馈调节模块;其中:所述探测装置,用于检测多晶硅少数载流子寿命;所述计算评级模块,用于收集检测数据,计算并分类统计结果;所述反馈调节模块,用于收集评级结果并控制激光晶化设备的自动调整。 |
地址 |
215300 江苏省苏州市昆山市昆山高新区晨丰路188号 |