发明名称 ELA不均匀性的量化判断方法及其反馈系统
摘要 本发明公开了一种激光晶化工艺(ELA)不均匀性的量化判断方法及其反馈系统,该系统主要包括:探测装置,用于检测多晶硅少数载流子寿命;计算评级模块,用于收集检测数据,计算并分类统计结果;反馈调节模块,用于收集评级结果并控制激光晶化设备的自动调整。利用本发明的量化判断方法及其反馈系统,不但能够对多晶硅不均匀性(多晶硅mura)进行量化判断,还能够将检测评判结果通过反馈系统反馈给工艺设备,进行及时调整,以减少产品损失和提高良率。
申请公布号 CN103219229A 申请公布日期 2013.07.24
申请号 CN201310104614.X 申请日期 2013.03.28
申请人 昆山维信诺显示技术有限公司 发明人 魏博;邱勇;李俊峰
分类号 H01L21/268(2006.01)I;H01L21/67(2006.01)I 主分类号 H01L21/268(2006.01)I
代理机构 北京汇泽知识产权代理有限公司 11228 代理人 刘淑敏
主权项 一种激光晶化工艺ELA不均匀性的量化反馈系统,包括激光晶化设备;其特征在于,还包括探测装置、计算评级模块和反馈调节模块;其中:所述探测装置,用于检测多晶硅少数载流子寿命;所述计算评级模块,用于收集检测数据,计算并分类统计结果;所述反馈调节模块,用于收集评级结果并控制激光晶化设备的自动调整。
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