发明名称 |
用于制备具有高度交联基质聚合物的全息介质的光聚合物制剂 |
摘要 |
本发明涉及一种光聚合物制剂,包括多元醇组分、多异氰酸酯组分、书写单体和含有共引发剂和通式F+An-的染料的光引发剂,其中F+表示阳离子染料和An-表示阴离子,其中通式F+An-的染料具有≤ 5%的吸水性。本发明进一步涉及全息介质,特别是薄膜形式的全息介质,包括一种根据本发明的光聚合物制剂,涉及这种介质用于记录全息图的用途,以及涉及可用于根据本发明的光聚合物制剂中的特殊染料。 |
申请公布号 |
CN103222000A |
申请公布日期 |
2013.07.24 |
申请号 |
CN201180053775.X |
申请日期 |
2011.11.04 |
申请人 |
拜耳知识产权有限责任公司 |
发明人 |
H.贝内特;T.罗勒;F-K.布鲁德;T.费克;M-S.魏泽;D.赫内尔 |
分类号 |
G11B7/245(2006.01)I;C09B69/06(2006.01)I;C09B11/00(2006.01)I;C09B17/00(2006.01)I;C09B19/00(2006.01)I;C09B21/00(2006.01)I;C09B23/00(2006.01)I;C09B23/04(2006.01)I;C09B23/06(2006.01)I;C09B23/08(2006.01)I;C09B23/10(2006.01)I;C09B23/14(2006.01)I;C09B55/00(2006.01)I;C09B57/00(2006.01)I |
主分类号 |
G11B7/245(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
石克虎;林森 |
主权项 |
光聚合物制剂,包括多元醇组分、多异氰酸酯组分、书写单体和含有共引发剂和下式的染料的光引发剂F+An‑,其中F+表示阳离子染料,和An‑表示阴离子,其特征在于通式F+An‑的染料具有≤ 5%的吸水性。 |
地址 |
德国蒙海姆 |