气体供给头和基板处理装置

摘要

本发明在于提供一种气体供给均匀性高、能够抑制在非计划的区域产生不需要的堆积物的气体供给头。该气体供给头具有由多个气体排出孔构成的第一气体孔列（102a）；由在和该第一气体孔列（102a）相同的面中与该第一气体孔列（102a）并列配置的另外的多个气体排出孔构成的第二气体孔列（102b）；由分别经由气体流路仅与构成上述第一气体孔列（102a）的气体排出孔连通的一个或者两个以上的气体扩散室（101a）；和由分别经由气体流路仅与构成上述第二气体孔列（102b）的气体排出孔连通的一个或者两个以上的气体扩散室（101b），对上述第一气体扩散室（101a）和第二气体扩散室（102b）供给不同种类的气体。

主权项

一种气体供给头，用于向利用多种气体对基板进行处理的处理空间供给所述多种气体，所述气体供给头的特征在于，具有：第一气体孔列，其包括多个气体排出孔；第二气体孔列，其包括在和该第一气体孔列相同的面中与该第一气体孔列并列配置的另外的多个气体排出孔；第一气体扩散单元，其包括一个或者两个以上的气体扩散室，仅构成所述第一气体孔列的气体排出孔分别经由气体流路与所述一个或者两个以上的气体扩散室连通；和第二气体扩散单元，其包括一个或者两个以上的气体扩散室，仅构成所述第二气体孔列的气体排出孔分别经由气体流路与所述一个或者两个以上的气体扩散室连通，向所述第一气体扩散单元和第二气体扩散单元供给不同种类的气体。