发明名称 在金属表面制备具有pH响应性的高分子膜的方法
摘要 本发明公开了一种在金属表面制备具有pH响应性的高分子膜的方法,该方法为:步骤一、在洁净的金属基片表面自组装端基α位含卤素的硫缩醛分子,得到自组装单分子层金属基片;二、将自组装单分子层金属基片置于含催化剂的单体溶液中,在惰性气体保护下反应,使自组装单分子层金属基片表面形成高分子膜;三、将表面形成高分子膜的金属基片用无水乙醇洗涤后用氮气吹干,得到表面具有pH响应性的高分子膜的金属基片。采用本发明的方法制备的高分子膜具有良好的稳定性,耐有机溶剂,当所处溶液pH值大于一临界值时高分子膜无明显变化,而当溶液的pH值小于一定值时高分子膜能够迅速从金属表面脱附,因此可作为靶向传输的载体材料。
申请公布号 CN103215577A 申请公布日期 2013.07.24
申请号 CN201210137104.8 申请日期 2012.05.07
申请人 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所 发明人 马宏伟;王秀梅;蔡桂鑫;张慎
分类号 C23C22/02(2006.01)I;C08F112/08(2006.01)I;C08F120/28(2006.01)I 主分类号 C23C22/02(2006.01)I
代理机构 西安创知专利事务所 61213 代理人 谭文琰
主权项 1.一种在金属表面制备具有pH响应性的高分子膜的方法,其特征在于,该方法包括以下步骤:步骤一、在洁净的金属基片表面自组装具有通式1的端基α位含卤素的硫缩醛分子,得到自组装单分子层金属基片;<img file="FDA0000160818371.GIF" wi="519" he="303" />式中:R<sub>1</sub>是烃基,或者是末端带羟基、羧基或甲氧基的烃基,R<sub>2</sub>是烃基,X是卤素;步骤二、将步骤一中所述自组装单分子层金属基片置于含催化剂的单体溶液中,在惰性气体保护下反应1h~48h,使自组装单分子层金属基片表面形成高分子膜;所述单体为苯乙烯和/或甲基丙烯酸酯类;所述单体溶液中单体的浓度为1μM~1mM;所述单体溶液的溶剂为正己烷、甲苯、甲醇、乙醇和水中的一种或几种;所述催化剂为联吡啶、五甲基二亚乙基三胺、氯化铜和抗坏血酸中的一种或几种;所述催化剂的摩尔量为单体摩尔量的1/15~1/5;步骤三、将步骤二中表面形成高分子膜的金属基片用无水乙醇洗涤后用氮气吹干,得到表面具有pH响应性的高分子膜的金属基片。
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