发明名称 雷射加工方法
摘要 本发明系提供一种可防止雷射光线照射到晶圆外侧,并且切割带或保持机构不会受雷射光线影响,可进行雷射加工之雷射加工方法。其解决手段为将晶圆保持于夹头台,接着在围绕晶圆之周围之状态下配设遮光构件。藉此,晶圆之周围可被遮光构件围绕,因此即使雷射光线照射到晶圆之外缘部之稍微外侧,遮光构件亦可遮住雷射光线,位于遮光构件下之切割带或夹头台不会受到雷射光线的影响,可防止切割带上开孔。
申请公布号 TWI402128 申请公布日期 2013.07.21
申请号 TW097119203 申请日期 2008.05.23
申请人 迪思科股份有限公司 日本 发明人 荒井一尚
分类号 B23K26/36;B28D5/04 主分类号 B23K26/36
代理机构 代理人 恽轶群 台北市松山区南京东路3段248号7楼;陈文郎 台北市松山区南京东路3段248号7楼
主权项
地址 日本