光阻用聚合物、光阻组成物及图案制造方法与光阻用聚合物用原料化合物

摘要

本发明提供一种光阻用聚合物，其用于深紫外线(DUV)准分子雷射微影时线边粗糙度小且缺陷产生少。此光阻用聚合物含有下述式(1)或式(2)所示的酸分解性单元作为结构单元。;(n表示2~24的整数；n=2时，J表示单键或取代基及/或含杂原子亦可的2价烃基；n≧3时，J表示取代基及/或含杂原子亦可的n价烃基；E表示聚合终止剂或链转移剂或聚合起始剂的残基；K1及K2各自分别表示亚烷基、环亚烷基、氧亚烷基、亚芳基、2价的噻唑咻环、2价的恶唑咻环以及2价的咪唑咻环所组成之族群中的至少一种；L1及L2各自分别表示-C(O)O-、-C(O)-以及-OC(O)-所组成之族群中至少一种；M1、M2、M3各自分别表示亚烷基、环亚烷基、氧亚烷基、亚芳基所组成之族群中的至少一种；Y、Y1、Y2各自分别表示酸分解性键；再者，k1、k2、l1、l2、m1、m2以及m3为0或1；再者，R1表示H或甲基)。