| 摘要 |
<p>Ce procédé de fabrication d'une cellule photovoltaïque consiste : * à réaliser un substrat semi-conducteur comportant une première face et une deuxième face opposées; * à réaliser, sur la première face du substrat, une première zone semi-conductrice dopée par l'implantation de premiers éléments dopants dans l'épaisseur du substrat et par l'activation thermique des premiers éléments dopants implantés à une première température d'activation ; * à réaliser, sur la deuxième face du substrat, une seconde zone semi-conductrice par l'implantation de seconds éléments dopants dans l'épaisseur du substrat et par l'activation thermique des seconds éléments dopants implantés à une seconde température d'activation inférieure à la première température d'activation. Au moins l'activation thermique des premiers éléments dopants est réalisée par une irradiation laser, les paramètres d'irradiation étant choisis afin que le rayonnement soit absorbé au plus dans une profondeur du premier micromètre du substrat.</p> |
