发明名称 p-ZnO和n-GaN组合的多层端发射激光器及制备方法
摘要 本发明属于半导体发光器件技术领域,涉及几种p-ZnO和n-GaN组合的多层端发射激光器及其制备方法。其芯片依次由衬底、n-GaN外延层、Ga2O3或n型AlGaN电流下限制层、p-ZnO基材料发光层、p型宽带隙ZnO基三元系材料电流上限制层、上电极构成,衬底是导电的GaAs晶体片、导电的InP晶体片、导电的SiC晶体片或导电的GaN晶体片,其导电类型和GaN外延层相同,衬底下面制备有下电极,由芯片解理的前、后端面构成前反射镜和后反射镜,器件在前反射镜和后反射镜出光。本发明制备了ZnO基激光器的可控谐振腔,可以降低激光器的阈值电流,提高器件输出功率,使激光的方向变好,进一步拓展了器件的应用范围。
申请公布号 CN102263370B 申请公布日期 2013.07.10
申请号 CN201110173444.1 申请日期 2010.10.09
申请人 吉林大学 发明人 杜国同;夏晓川;赵旺;梁红伟;张宝林
分类号 H01S5/18(2006.01)I;H01S5/20(2006.01)I;H01S5/10(2006.01)I 主分类号 H01S5/18(2006.01)I
代理机构 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 代理人 张景林;刘喜生
主权项 一种p‑ZnO和n‑GaN组合的多层端面发射激光器,其芯片依次由衬底(1)、在衬底(1)上外延生长的n型GaN外延层(2)、在GaN外延层(2)上制备的Ga2O3电流下限制层(3)或n型AlGaN电流下限制层(3)、在电流下限制层(3)上制备的p型ZnO基材料发光层(4)、在ZnO基材料发光层(4)上面制备的p型宽带隙ZnO基三元系材料电流上限制层(7)、在电流上限制层(7)上制备的电极(6)构成,电流上限制层(7)的禁带宽度大于ZnO基发光层(4)的禁带宽度,其特征在于:衬底(1)是导电的GaAs晶体片、导电的InP晶体片、导电的SiC晶体片或导电的GaN晶体片,其导电类型和GaN外延层(2)的导电类型相同,同时在衬底(1)的下面制备有下电极(5);由芯片解理的前、后端面构成前反射镜(8)和后反射镜(9),激光器在前反射镜(8)和后反射镜(9)出光。
地址 130012 吉林省长春市前进大街2699号