发明名称 |
离子注入装置的基板传输结构 |
摘要 |
本实用新型公开了一种能够在缩短工序时间的同时保证离子注入均匀度的离子注入装置的基板传输结构,其包括布置在同一平面上的至少两组轨道及对应可沿轨道移动的基板输送装置,各条轨道在与所述离子注入装置对应的离子注入工位交会,各条轨道的送进工位相互平行并间隔设置,各条轨道的送出工位也相互平行并间隔设置。所述的基板输送装置由多个首尾相连且可彼此相对转动的节状部件组成,基板固定结构通过中心支座与基板输送装置连接。本实用新型可以向离子注入装置内同时送进两块以上的基板,但各块基板与离子注入装置之间的距离保持不变,离子注入均匀度有保证,同时减少了抽真空次数,提高了生产效率。 |
申请公布号 |
CN203055883U |
申请公布日期 |
2013.07.10 |
申请号 |
CN201320034834.5 |
申请日期 |
2013.01.23 |
申请人 |
四川虹视显示技术有限公司 |
发明人 |
李惠元;赵大庸 |
分类号 |
H01L21/677(2006.01)I;H01J37/317(2006.01)I |
主分类号 |
H01L21/677(2006.01)I |
代理机构 |
成都虹桥专利事务所(普通合伙) 51124 |
代理人 |
孙恩源 |
主权项 |
离子注入装置的基板传输结构,包括布置在同一平面上的至少两组轨道(5)及对应可沿轨道(5)移动的基板输送装置(4),其特征是:所述的各条轨道(5)在与所述离子注入装置(1)对应的离子注入工位(10)交会。 |
地址 |
611731 四川省成都市高新西区科新西街168号 |