发明名称 |
一种石墨烯纳米带场效应晶体管 |
摘要 |
本实用新型的目的在于提供一种石墨烯纳米带场效应晶体管,包括衬底、沟道层、HfO2材质的底栅介质层、HfO2材质的顶栅介质层、源电极、漏电极和顶栅电极,所述沟道层为采用石墨烯纳米带制成的沟道层,所述顶栅介质层和底栅介质层分别位于沟道层的上方和下方,衬底位于底栅介质层的下方,源电极和漏电极分别位于沟道层的两端,顶栅电极位于顶栅介质层上,所述沟道层的宽度小于10nm。本实用新型的开关电流比高达107,沟道电子的迁移率达到300cm2/Vs。 |
申请公布号 |
CN203055916U |
申请公布日期 |
2013.07.10 |
申请号 |
CN201220047573.6 |
申请日期 |
2012.02.15 |
申请人 |
西安电子科技大学 |
发明人 |
马中发;庄弈琪;张鹏;吴勇;张策;包军林 |
分类号 |
H01L29/78(2006.01)I;H01L29/423(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/78(2006.01)I |
代理机构 |
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代理人 |
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主权项 |
一种石墨烯纳米带场效应晶体管,其特征在于,包括衬底、沟道层、HfO2材质的底栅介质层、HfO2材质的顶栅介质层、源电极、漏电极和顶栅电极,所述沟道层为采用石墨烯纳米带制成的沟道层,所述顶栅介质层和底栅介质层分别位于沟道层的上方和下方,衬底位于底栅介质层的下方,源电极和漏电极分别位于沟道层的两端,顶栅电极位于顶栅介质层上,所述沟道层的宽度小于10nm。 |
地址 |
710071 陕西省西安市太白南路二号西安电子科技大学 |