发明名称 |
一种用于原子层沉积设备的气体分配器 |
摘要 |
本发明涉及原子层沉积设备技术领域,具体涉及一种用于原子层沉积设备的气体分配器。所述用于原子层沉积设备的气体分配器,所述气体分配器设置在原子层沉积设备的反应腔室内,位于所述反应腔室内基片台的上方;所述气体分配器为环型或U型的气路管道,所述气路管道上设有一个进气口和若干个出气口;所述进气口与所述反应腔室的进气管道相连通,所述出气口均匀分布在所述气路管道的内外两侧,所述出气口的出气方向与垂直方向形成倾斜角度。本发明具备结构简单,易于加工,成本低廉的优点,在满足ALD沉积方式的同时,能够实现前躯体完整地覆盖样品表面,可以很好地提高薄膜均匀性。 |
申请公布号 |
CN103194737A |
申请公布日期 |
2013.07.10 |
申请号 |
CN201210002317.X |
申请日期 |
2012.01.05 |
申请人 |
中国科学院微电子研究所 |
发明人 |
张艳清;夏洋;李超波;万军;吕树玲;陈波;石莎莉;李楠 |
分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/455(2006.01)I |
代理机构 |
北京市德权律师事务所 11302 |
代理人 |
刘丽君 |
主权项 |
一种用于原子层沉积设备的气体分配器,其特征在于:所述气体分配器设置在原子层沉积设备的反应腔室内,位于所述反应腔室内基片台的上方;所述气体分配器为环型或U型的气路管道,所述气路管道上设有一个进气口和若干个出气口;所述进气口与所述反应腔室的进气管道相连通,所述出气口均匀分布在所述气路管道的内外两侧,所述出气口的出气方向与垂直方向形成倾斜角度。 |
地址 |
100029 北京市朝阳区北土城西路3号 |