发明名称 |
发光二极管晶圆的研磨构造 |
摘要 |
本实用新型涉及一种发光二极管晶圆的研磨构造,供装设于一转动轴上,用于研磨一发光二极管晶圆,其包含一研磨板,该研磨板为圆板状,且设有多个磨料齿,其中该多个磨料齿等距且呈放射状的排列于该研磨板的边缘区域,且该多个磨料齿呈涡旋状,据此本实用新型用于研磨该发光二极管晶圆时,可通过放射状排列且涡旋状的磨料齿来增加排屑效果,且涡旋状的磨料齿在研磨该发光二极管晶圆的厚度时,可增加与该发光二极管晶圆的接触面积,因而可以降低对该发光二极管晶圆的冲击性并减少研磨时的冲击力道,据此可以节省排屑的停机时间,并避免该发光二极管晶圆于研磨时产生龟裂,而增加产量与良率。 |
申请公布号 |
CN203045495U |
申请公布日期 |
2013.07.10 |
申请号 |
CN201220716150.9 |
申请日期 |
2012.12.21 |
申请人 |
正恩科技有限公司 |
发明人 |
陈孟端 |
分类号 |
B24B37/02(2012.01)I;B24B55/06(2006.01)I |
主分类号 |
B24B37/02(2012.01)I |
代理机构 |
北京康信知识产权代理有限责任公司 11240 |
代理人 |
余刚;李静 |
主权项 |
一种发光二极管晶圆的研磨构造,其特征在于,所述发光二极管晶圆的研磨构造包含:一研磨板,所述研磨板为圆板状;多个磨料齿,所述多个磨料齿等距且以放射状排列于所述研磨板的边缘区域,且所述多个磨料齿呈涡旋状。 |
地址 |
中国台湾 |