发明名称 |
提升PECVD镀膜均匀性的装置 |
摘要 |
本实用新型涉及太阳电池的生产技术领域,具体涉及一种提升PECVD镀膜均匀性的装置,包括沉积腔、射频电极和进气系统,还包括设置于沉积腔下方的真空系统,沉积腔为管式真空腔体,进气系统采用纵向进气的方式,包括位于沉积腔一侧的进气装置和位于沉积腔内部上方的喷气管。本实用新型的进气方式由原来的沉积腔横向进气改为纵向进气,出气方式改为沉积腔体上设置一出气口的出气方式,通过对喷气管的设计,既提升了薄膜的性能,还有效的提高了PECVD薄膜制备过程中对工艺气体的利用率。 |
申请公布号 |
CN203049035U |
申请公布日期 |
2013.07.10 |
申请号 |
CN201220665837.4 |
申请日期 |
2012.12.06 |
申请人 |
山东力诺太阳能电力股份有限公司 |
发明人 |
任现坤;姜言森;张春艳;程亮;贾河顺;徐振华 |
分类号 |
C23C16/505(2006.01)I;C23C16/455(2006.01)I |
主分类号 |
C23C16/505(2006.01)I |
代理机构 |
济南舜源专利事务所有限公司 37205 |
代理人 |
宋玉霞 |
主权项 |
一种提升PECVD镀膜均匀性的装置,包括沉积腔、射频电极和进气系统,其特征在于,还包括设置于沉积腔下方的真空系统,沉积腔为管式真空腔体,进气系统采用纵向进气的方式,包括位于沉积腔一侧的进气装置和位于沉积腔内部上方的喷气管。 |
地址 |
250103 山东省济南市济南市经十东路30766号力诺科技园 |