发明名称 一种三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置
摘要 一种三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置。它由一固定瓣和两交替轮换瓣组成真空镀膜室;两轮换瓣内附有可扩展的镀件转架,其在于镀件转架上可灵活变换镀件挂轴数量以及电极数量。真空镀膜室分解由三瓣壳体组合构成,由二瓣壳体组合工作,配套双镀件转架实现可连续交替工作。受“伯力努”流体理论启发,采用半圆柱鼎形二瓣壳体组合镀膜室,实现密闭室体平滑连接消除死角,使真空镀膜室的密闭型腔无湍流渦浪涌,大程度限制气浪冲击,限制真空镀膜室的升压率,节省真空达标时间。双镀件转架引用“行星轮系构形”,在轮系的径向处均布排列镀件单元转架,实现自由镀件转架扩展,实现镀件转架任意调速。
申请公布号 CN203034083U 申请公布日期 2013.07.03
申请号 CN201220447337.3 申请日期 2012.09.04
申请人 深圳市特艺实业有限公司 发明人 陈娘洲
分类号 C23C14/22(2006.01)I;C23C14/50(2006.01)I;C23C14/56(2006.01)I 主分类号 C23C14/22(2006.01)I
代理机构 代理人
主权项 一种三瓣壳体附有交替镀件转架的真空镀膜装置,其包括三瓣壳体镀膜室、可扩展连续交替镀件转架,其特征在于: 所述三瓣壳体镀膜室由固定瓣(1g)和两活动瓣(2h1、2h2)组成;固定瓣(1g)两轴向边对称铰接两活动瓣(2h1、2h2)的各相邻轴向边,两个活动瓣(2h1、2h2)交替轮回与固定瓣(1g)组合成镀膜室,所述三瓣壳体镀膜室的三个瓣(1g)和(2h1、2h2)其轴向截面为半圆壳体,其轴向两端头为半圆鼎形状,其轴向切面附有基体法兰(11),基体法兰附有(a)密封圈沟槽;所述固定瓣(1g)附有与扩散泵或分子泵连接的大阀法兰接口(12)及密封沟槽,所述固定瓣(1g)的上端附有磁控或蒸发电极连接棒口(444),所述三瓣壳体镀膜室的内壁附有钢衣; 所述可扩展连续交替镀件转架(3)由调速电机驱动轮(30q)、一次公转轮(3‑2)、一次自转介轮(3‑3)、固定轮(3‑1)、一次自转轮(3‑4)、二次公转轮(3‑5)、二次自转轮(3‑6)、镀件单元转架(3‑7)、镀件接挂转杆(3‑8)、一次自转转杆(3‑9)、可扩展连续交替镀件转架上支撑板轮(5)、磁控或蒸发电极连接棒(44)组成。
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