发明名称 微波匀胶设备及其方法
摘要 本发明公开了一种微波匀胶设备,包括:托盘(10),安装于腔室内部,用于吸附基片(9);喷嘴(7),延伸入腔室内部,用于将去离子水、有机溶剂或光刻胶喷射到基片上;微波发生装置(11),安装于腔室侧壁,用于产生微波对基片提供热量;温控系统(12),安装于腔室上壁,用于控制微波发生装置(11)以设定微波加热的功率、频率、时间。依照本发明的微波匀胶设备及其方法,采用微波加热脱水,快速蒸发基片内水分,降低涂胶工艺的时间成本、减小环境污染。此外微波干燥施加的热量是从基片内部逐渐扩散到基片外部,从而减小干燥应力,使薄膜涂层既具有低的孔隙度又有较好的强度,避免干凝胶的开裂。
申请公布号 CN103182359A 申请公布日期 2013.07.03
申请号 CN201110448765.8 申请日期 2011.12.28
申请人 中国科学院微电子研究所 发明人 王燕鹊;王磊
分类号 B05C11/08(2006.01)I;B05D3/06(2006.01)I 主分类号 B05C11/08(2006.01)I
代理机构 北京蓝智辉煌知识产权代理事务所(普通合伙) 11345 代理人 陈红
主权项 一种微波匀胶设备,包括:托盘(10),安装于腔室内部,用于吸附基片(9);喷嘴(7),延伸入腔室内部,用于将去离子水、有机溶剂或光刻胶喷射到基片上;微波发生装置(11),安装于腔室侧壁,用于产生微波对基片提供热量;温控系统(12),安装于腔室上壁,用于控制微波发生装置(11)以设定微波加热的功率、频率、时间。
地址 100029 北京市朝阳区北土城西路3号