发明名称 |
一种新型电镀槽 |
摘要 |
本实用新型公开了一种新型电镀槽,包括主镀槽、pH控制系统和电镀液循环系统三个部分。其特点是pH控制系统包括pH传感器、pH控制器和药液添加装置,电镀液循环系统是将辅助槽、泵、分别设置在主镀槽上部和下部的出液口和进液口用导管连通。本实用新型的优点是:电镀液的pH值可以得到准确控制,电镀液更均匀,采用这种电镀槽,可以提高电镀质量。 |
申请公布号 |
CN203034119U |
申请公布日期 |
2013.07.03 |
申请号 |
CN201320023106.4 |
申请日期 |
2013.01.03 |
申请人 |
浙江师范大学 |
发明人 |
方萌;刘卫东;钱嘉彧;赵玉玲 |
分类号 |
C25D17/00(2006.01)I;C25D21/14(2006.01)I;C25D21/18(2006.01)I |
主分类号 |
C25D17/00(2006.01)I |
代理机构 |
|
代理人 |
|
主权项 |
一种新型电镀槽,包括主镀槽(1)、pH控制系统和电镀液循环系统三个部分,其特征在于:所述的pH控制系统包括pH传感器(3)、pH控制器(4)和药液添加装置(7),所述的电镀液循环系统包括辅助槽(2)、出液口(8)、进液口(9)、导管(5)和泵(6)。 |
地址 |
321004 浙江省金华市迎宾大道688号浙江师范大学 |