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发明名称
用于矽结晶的坩埚及其制造方法
摘要
本发明系关于用于矽结晶之坩埚及关于坩埚之脱模涂层之制备和应用,该坩埚系用于处理在坩埚中予以固化然后移出成为锭之熔融材料,更特别系关于多晶矽的固化时所使用之坩埚之脱模涂层。本发明人的目的是提供包含氮化矽涂层之坩埚,其制造较快速且较价廉,且其较强是对于壁具有改良之黏着性。现已发现此等问题可使用用于矽结晶之坩埚予以解决,包括a)基体其包含界定内部容积之一底面及侧壁;b)保护涂层包括80至95重量%的氮化矽及5至20重量%的低温矿物黏结剂,总氧含量范围自5至15重量%。
申请公布号
TWI400369
申请公布日期
2013.07.01
申请号
TW095136861
申请日期
2006.10.04
申请人
维苏威克鲁什伯公司 美国
发明人
吉柏特朗库尔
分类号
C30B15/10
主分类号
C30B15/10
代理机构
代理人
何金涂 台北市大安区敦化南路2段77号8楼
主权项
地址
美国
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