发明名称 | 一种基于镍钯金镀层的金线键合互连方法 | ||
摘要 | 本发明公开了一种基于镍钯金镀层的金线键合互连方法,通过对材料的梯度结构设计提出了Ni/Pd/Au键合基层结构,然后采用金丝键合的办法实现大规模/超大规模集成电路高可靠互连。在不影响电路原有电性能的基础上,通过改变键合点上的基层结构,将使用金丝键合的异质键合转变为同质键合,避免了金属间化合物的生长,使产品通过300℃、24hrs贮存后键合强度均能达到3.0g以上,产品的可靠性得到显著提高,芯片PAD焊接界面寿命延长至2-3倍。 | ||
申请公布号 | CN103178003A | 申请公布日期 | 2013.06.26 |
申请号 | CN201310102243.1 | 申请日期 | 2013.03.27 |
申请人 | 中国航天科技集团公司第九研究院第七七一研究所 | 发明人 | 李克中;刘晓艳;施英铎;杨燕 |
分类号 | H01L21/768(2006.01)I | 主分类号 | H01L21/768(2006.01)I |
代理机构 | 西安通大专利代理有限责任公司 61200 | 代理人 | 汪人和 |
主权项 | 一种基于镍钯金镀层的金线键合互连方法,其特征在于,包括以下步骤:1)采用酸洗的方式,清洗晶圆的键合点上表面的污染物;2)用碱性微蚀法去掉键合点表面层的氧化物和污染物;3)用锌活化工艺,在键合点表面层上制作出锌保护层;4)使用硝酸去除锌保护层表面不平整的锌层,然后进行二次锌活化;5)使用去离子水清洗后在锌保护层上进行化学镀镍,控制镀镍层厚度为3μm~5μm;6)使用去离子水清洗后在镀镍层上进行化学镀钯,控制镀钯层厚度为0.2μm~0.5μm;7)使用去离子水清洗后在镀钯层上进行化学镀金,控制镀金层厚度为0.2μm~0.5μm;镀金完成后清洗、吹干;8)将晶圆切割成单个芯片,将单个芯片装片到封装外壳上,通过金丝键合将芯片键合点与封装外壳键合点连接。 | ||
地址 | 710054 陕西省西安市太乙路189号 |