发明名称 |
外延型快速恢复二极管及其制备方法 |
摘要 |
本发明提供一种外延型快速恢复二极管(FRED)及其制备方法,属于功率器件技术领域。该FRED的用于形成PN结的阳极区的P型半导体掺杂层包括第一P型半导体区域、第二P型半导体区域以及第三P型半导体区域,所述第一P型半导体区域、第二P型半导体区域和第三P型半导体区域的掺杂浓度依次递增。在其制备方法过程中,通过三次掺杂步骤分别形成第一P型半导体区域、第二P型半导体区域以及第三P型半导体区域,从而实现P型半导体掺杂层的掺杂浓度的重新分布。该FRED的抗雪崩能力强,反向击穿特性相对较“软”,尤其适合于串联地应用或者用作IGBT的续流二极管。 |
申请公布号 |
CN103178120A |
申请公布日期 |
2013.06.26 |
申请号 |
CN201110440632.6 |
申请日期 |
2011.12.26 |
申请人 |
江苏宏微科技有限公司 |
发明人 |
贺东晓;吴迪;王晓宝;周锦源 |
分类号 |
H01L29/861(2006.01)I;H01L29/06(2006.01)I;H01L21/329(2006.01)I |
主分类号 |
H01L29/861(2006.01)I |
代理机构 |
中国专利代理(香港)有限公司 72001 |
代理人 |
唐立;王忠忠 |
主权项 |
一种外延型快速恢复二极管,包括分别用于形成PN结的阴极区和阳极区的N型半导体掺杂层和P型半导体掺杂层,其特征在于,所述P型半导体掺杂层中从PN结的界面处向所述阳极区表面依次邻接地设置第一P型半导体区域、第二P型半导体区域以及第三P型半导体区域;其中,所述第一P型半导体区域的掺杂浓度低于所述第二P型半导体区域的掺杂浓度,所述第二P型半导体区域的掺杂浓度低于所述第三P型半导体区域的掺杂浓度。 |
地址 |
213022 江苏省常州市新北区华山中路18号 |