| 发明名称 | 具有毂的晶片载具 | ||
| 摘要 | 一种用于转盘CVD反应器的晶片载具（30）包括陶瓷例如碳化硅形成的一体式托板（32），在该托板的上游表面（34）限定了晶片保持特征例如容槽（38）；还包括毂（40），其在托板（32）的区（44）中以可拆下的方式安装在托板（32）上。毂（40）提供了在反应器芯轴（16）上的紧固连接，而不会在陶瓷托板（32）上施加集中应力。毂（40）可在清洁托板（32）的过程中拆下。晶片载具（30）还优选包括在托板（32）的区（44）设在托板（32）的上游表面（34）上的气体流动促进元件（348，448）。气体流动促进元件（348，448）有助于重新引导入射气体沿着上游表面（34）流动并且避开在区（44）出现的流动不连续性。 | ||
| 申请公布号 | CN103173743A | 申请公布日期 | 2013.06.26 |
| 申请号 | CN201310021407.8 | 申请日期 | 2008.12.01 |
| 申请人 | 威科仪器有限公司 | 发明人 | V·博古斯拉夫斯基;A·I.·居拉瑞;K·莫伊;E·A.·阿穆尔 |
| 分类号 | C23C16/458(2006.01)I;H01L21/687(2006.01)I | 主分类号 | C23C16/458(2006.01)I |
| 代理机构 | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人 | 蔡胜利 |
| 主权项 | 一种用于CVD反应器的晶片载具，包括：（a）托板，其具有朝向彼此相反方向的上游表面和下游表面，所述托板具有中央区和外围区，所述托板在外围区中具有晶片保持特征，所述晶片保持特征被配置成保持多个晶片，以使所述晶片暴露在托板的上游表面；以及（b）气体流动促进元件，其在中央区从托板的上游表面突伸。 | ||
| 地址 | 美国纽约 | ||