| 发明名称 | 一种高透过率透明导电薄膜及其制备方法 | ||
| 摘要 | 本发明公开了一种高透过率透明导电薄膜，其特征在于，所述透明导电薄膜的模系为二氧化锡/氧化锌/二氧化硅/基底材料/二氧化硅，或二氧化硅/二氧化锡/氧化锌/二氧化硅/基底材料/二氧化硅的多层膜结构，主体材料为金属二氧化锡与氧化锌和锡与锌，其中，锡与锌元素两者在二氧化锡/氧化锌复合层中的质量百分含量为75.9％～83.5％，锡与锌元素的质量比为45～51∶55～49，薄膜的厚度为5nm～250nm。本发明公开了一种高透过率透明导电薄膜的制备方法。本发明采用磁控溅射方法沉积的薄膜性能优异，具有良好的导电性和透光性，可广泛用于触摸屏液晶显示屏、电致发光显示、太阳能电池、晶体管等光电技术领域。 | ||
| 申请公布号 | CN103177800A | 申请公布日期 | 2013.06.26 |
| 申请号 | CN201110436883.7 | 申请日期 | 2011.12.22 |
| 申请人 | 上海纳米技术及应用国家工程研究中心有限公司 | 发明人 | 毛启明;姜来新;何丹农 |
| 分类号 | H01B5/14(2006.01)I;C23C14/35(2006.01)I | 主分类号 | H01B5/14(2006.01)I |
| 代理机构 | 上海东方易知识产权事务所 31121 | 代理人 | 唐莉莎 |
| 主权项 | 一种高透过率透明导电薄膜，其特征在于，所述透明导电薄膜的模系为二氧化锡/氧化锌/二氧化硅/基底材料/二氧化硅，或二氧化硅/二氧化锡/氧化锌/二氧化硅/基底材料/二氧化硅的多层膜结构，主体材料为金属二氧化锡与氧化锌和锡与锌，其中，锡与锌元素两者在二氧化锡/氧化锌复合层中的质量百分含量为75.9％～83.5％，锡与锌元素的质量比为45～51∶55～49，薄膜的厚度为5nm～250nm。 | ||
| 地址 | 200241 上海市闵行区江川东路28号 | ||