| 发明名称 | 包含阴离子聚合物的抗破碎剂型 | ||
| 摘要 | 本发明涉及呈现至少500N的断裂强度的药物剂型，所述剂型含有：药理活性成分(A)；可通过聚合包含携带质子化形式的阴离子官能团或其生理上可接受的盐的烯键式不饱和单体的单体组合物获得的生理上可接受的聚合物(B)；具有至少200,000g/mol的重量平均分子量的聚环氧烷(C)，其中所述聚环氧烷(C)基于所述剂型的总重量的含量为至少20wt%；其中所述药理活性成分(A)存在于包含所述聚合物(B)和所述聚环氧烷(C)的控释基质内。 | ||
| 申请公布号 | CN103179954A | 申请公布日期 | 2013.06.26 |
| 申请号 | CN201180042030.3 | 申请日期 | 2011.09.01 |
| 申请人 | 格吕伦塔尔有限公司 | 发明人 | L.巴恩沙伊德;S.施韦尔;J.巴托洛莫斯 |
| 分类号 | A61K9/16(2006.01)I;A61K9/20(2006.01)I | 主分类号 | A61K9/16(2006.01)I |
| 代理机构 | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人 | 温宏艳;梁谋 |
| 主权项 | 呈现至少500 N的断裂强度的药物剂型，所述剂型含有：药理活性成分(A)；可通过聚合包含携带质子化形式的阴离子官能团或其生理上可接受的盐的烯键式不饱和单体的单体组合物获得的生理上可接受的聚合物(B)；具有至少200,000 g/mol的重量平均分子量的聚环氧烷(C)，其中所述聚环氧烷(C)基于所述剂型的总重量的含量为至少20 wt%；其中所述药理活性成分(A)存在于包含所述聚合物(B)和所述聚环氧烷(C)的控释基质内。 | ||
| 地址 | 德国阿兴 | ||